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第三十五章 2nm光刻机研制成功!!

第三十五章? ?2nm光刻机研制成功!!

京都第一医院。?看?书×屋% ·免?)±费·=2阅?读%°

一间重症监护室内。

“High—NA EUV的曝光场面积减半,混合半场与全场曝光搞定…最后一步了。”

“然后完成半缝合……”

“2nm光刻机的制造方案搞定!”

虚拟空间内的杨华兴高采烈地看着眼前通过这几天的研究,按照自己的制造方案研制具现出的2nm光刻机,整个人都异常激动!

这几天,他利用寿命兑换清醒时间,通宵达旦地攻克这2nm光刻机的制造方案。

终于皇天不负有心人!

今天终于成功地将这2nm光刻机的制造方案全部摸索了出来!

不得不说。

相比溶栓纳米机器人二代,以及3D器官打印机,这2nm光刻机的研制过程不仅复杂了数倍,而且他所需要考虑的问题更多!

“真不容易啊!”

杨华长出一口气,忍不住自言自语地感慨着。

想要掌握2nm光刻机的研制方案,可不是依赖单一领域的创新,还要考虑光学,材料,精密机械,物理等多方面的问题!

而这其中,明面上的技术难题对于拥有着双倍世界顶级科研者研究能力的杨华而言,倒不是最大的问题。£?e鸿?特[小{说:网= ]**无÷错ˉ?|内)§容§]

最难的反而是材料,以及各项零碎的技术问题。

这么多年以来,外国对华夏不限2nm光刻机的整个光刻机,以及芯片领域都展开了卡脖子,封锁的情况。

甚至可以这么说,他在研制的过程中,单纯的研制出2nm光刻机的制造方案可能倒是并没有那么难。

但是其中最膈应人的是他还得考虑华夏目前掌握的科技水平,是否能够根据他提供的2nm光刻机制造方案研制出2nm光刻机。

这一过程才是最繁琐,最麻烦的!

EUV技术累计专利超5万项,ASML及其合作伙伴掌握核心知识产权。

而目前的华夏光刻机,芯片领域情况是在EUV光源、反射镜镀膜等领域的专利覆盖率不足10%,且高端光学工程师缺口达数万人。

因此就算华夏掌握了完整的2nm光刻机制造方案,也很有可能因为一个细微的毫不起眼的技术壁垒而导致无法研制成功。

或者外国因为一个简单的零件,卡华夏脖子,都会让2nm光刻机的制造方案沦为废纸一张。

所以他还得考虑这些因素,从而思考如何解决的办法,以及创新设计制造零件。ˉ?E:=-Z?D?小??说[网;? {更&新?ˉ?最)快μ

这让2nm光刻机的攻克过程,难度直接飙升了几倍不止。

但好在杨华硬着头皮,一一将其解决了。

“这一下,华夏在光刻机领域也算是真正意义上的站起来了。”

杨华的脑海中是无比复杂,精密,繁琐,真正意义上的2nm光刻机制造方案。

他相信只要华夏根据他研制的2nm光刻机制造方案,就能够掌握所有国外对华夏光刻机领域卡脖子的技术,以及零件。

甚至是远远地超过!

华夏只要根据这些技术,完全能够掌握更多的芯片,以及光刻机技术!

这对于华夏目前的光刻机,芯片领域意义重大!

他必须尽快传出去!

“也不知道3D器官打印机什么时候才能发布。”

杨华决定离开虚拟空间,同时忍不住小声地嘀咕了一句,距离3D器官打印机任务结束的时间可不多了,却迟迟没有动静,正好趁着将2nm光刻机的制造方案传出去的空当问一声。

心神一动,从虚拟空间中离开。

而与此同时。

外界。

“杨华师哥,你感觉怎么样了?”

杨华一睁眼,便是看到了陈琳师妹那哭红的眼睛,以及关切的脸。

刚想摇头说些什么。

身体内传来了剧烈疼痛,瞬间让他痛的生不如死。

“该死!”

“真疼啊!”

杨华心中忍不住暗骂一声!

每次从虚拟空间离开,意识回归自己身体时候的那种痛感,简直让人生不如死!

这也加大了他赶紧完成短期任务,从而完成中期任务,增强体质的决心。

寿命是活着的根本,体质是能够让他好好活着基础

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